浙江大學(xué)光刻浸液系統模型
浙江大學(xué)機械工程學(xué)院?jiǎn)枅F隊，堅持十五年基礎研究和技術(shù)攻關(guān)，突破光刻機浸液系統設計制造關(guān)鍵技術(shù)，為高端光刻機國產(chǎn)化研制奠定了基礎。
浙江大學(xué)光刻浸液系統模型
浙江大學(xué)光刻浸液系統模型
光刻機是芯片制造的核心設備之一，作為光、機、電一體化的超大型復雜系統，面臨著(zhù)很多“卡脖子”技術(shù)難題。
浙江大學(xué)光刻浸液系統模型
2022年05月20日admin
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